PTW成立於2004年，是世界領先的濺射靶材及蒸鍍顆粒製造商，用於物理氣相沉積技術(PVD)。
 

• 高純度金屬：高純度鉻(99.99% Cr), 鉬(99.99% Mo), 鎢(99.999% W), 鉭(99.995% Ta), 鈮(99.99%Nb), 矽(99.999% Si), 鈧(99.99% Sc), 銅(99.9999% Cu), 鈦(99.99% Ti), 鋁(99.999% Al)、鎳(99.99% Ni)、鎳合金(NiCr, NiV, NiCrSi, …)和鋁鈦(AlTi, AlCr,…)合金
• 3D列印及MIM金屬粉末
• 電鍍添加之高純度無水金屬鹽化物及金屬鹵化物
• 光學蒸鍍用高純度氧化物,氟化物及氧氟化合物
• 高純度稀土金屬
• 高純度鉑族金屬
• 三五族及二六族半導體材料
• 熱電材料
• 大電流接觸材料：Cu-W, Cu-Ni-W, Cu-Cr
• 光學鍍膜代工